A.发射区过高掺杂会使发射区迁移率降低
B.发射区过高掺杂会使发射区禁带宽度减小
C.发射区过高掺杂易发生基区大注入效应
D.发射区过高掺杂易诱发基区穿通
第1题
A.发射区重掺杂导致杂质能级分裂,禁带宽度变窄,增大
B.发射区重掺杂导致电子浓度升高,增大,发射效率提高
C.俄歇复合增强,空穴寿命减小,扩散长度减小,增大
D.考虑发射效率公式,放大系数减小
第2题
A.发射区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,集电区面积大且掺杂较发射区轻;
B.集电区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较集电区轻;
C.基区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较基区轻;
D.发射区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,基区面积大且掺杂较发射区轻。
第7题
A.A.发射区与基区交界处的PN结为发射结
B.B.基区与集电区交界处的PN结为发射结
C.C.发射区与基区交界处的PN结为集电结
D.D.发射区与集电区交界处的PN结为集电结
第9题
A.沟道长度越长,衬底掺杂浓度越大
B.沟道长度越长,衬底掺杂浓度越小
C.沟道长度越短,衬底掺杂浓度越大
D.沟道长度越短,衬底掺杂浓度越小
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