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[单选题]

随着温度的升高,非简并n型半导体电导率的变化过程为?()

A.先增大(考虑杂质电离和电离杂质散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发)

B.先增大(考虑杂质电离和晶格振动散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发)

C.先减小(考虑晶格振动散射),后增大(考虑本征激发),再减小(考虑晶格振动散射)

D.先增大(晶格振动散射),后减小(考虑杂质电离和电离杂质散射),再增大(考虑本征激发)

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更多“随着温度的升高,非简并n型半导体电导率的变化过程为?()”相关的问题

第1题

随着温度的升高,n型半导体电导率的变化应为()。

A.先增大(考虑杂质电离和电离杂质散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发)

B.先增大(考虑杂质电离和晶格振动散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发)

C.先减小(考虑晶格振动散射),后增大(考虑本征激发),再减小(考虑晶格振动散射)

D.先增大(晶格振动散射),后减小(考虑杂质电离和电离杂质散射),再增大(考虑本征激发)

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第2题

迁移率与杂质浓度和温度的关系为:()。

A.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

B.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

C.若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降

D.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

E.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

F.杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值

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第3题

如果温度升高,半导体中的电离杂质散射概率和晶格振动散射概率的变化分别是()。

A.变大,变大

B.变大,变小

C.变小,变大

D.变小,变小

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第4题

迁移率
与杂质浓度和温度的关系为:()。

A、若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

B、若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

C、若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降

D、若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

E、若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

F、杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值

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第5题

对于单一掺杂的n型半导体,低温下,其载流子主要来源于()。
对于单一掺杂的n型半导体,低温下,其载流子主要来源于()。

A.受主杂质电离

B.施主杂质电离

C.本征激发

D.杂质散射

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第6题

p型的MOS结构半导体表面处于反型区时,空间电荷是()的,为()。

A.正,电离施主杂质

B.正,电离施主杂质和空穴

C.负,电离受主杂质

D.负,电离受主杂质和电子

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第7题

室温范围,n型半导体的电阻率随温度升高如何变化?()

A.增大

B.减小

C.不变

D.先减小,后增大

E.先增大,后减小

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第8题

Si、Ge元素半导体的主要散射机构为:()。

A.电离杂质散射

B.声学波散射

C.光学波散射

D.谷间散射

E.位错散射

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第9题

以下关于“本征半导体”与“杂质半导体”的描述正确的是()。
A、纯净无杂质、结构理想无缺陷的半导体是本征半导体

B、实际的半导体材料总是存在杂质和缺陷的,只要杂质和缺陷在一定限度内,就可看作是本征半导体

C、本征半导体掺入杂质可形成杂质半导体

D、本征半导体掺入施主杂质可形成n型半导体,掺入受主杂质可形成p型半导体

E、n型半导体依靠导带电子导电

F、p型半导体依靠价带空穴导电

G、本征半导体中载流子由本征激发产生

H、本征半导体中导带电子浓度等于价带空穴浓度

I、施主杂质电离可以为半导体提供导电电子

J、受主杂质电离可以为半导体提供导电空穴

K、杂质半导体中载流子主要靠杂质电离产生

L、杂质半导体中也存在本征激发的过程

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第10题

对于一般浓度的掺杂半导体,室温下其主要散射机制为:()。
对于一般浓度的掺杂半导体,室温下其主要散射机制为:()。

A、电离杂质散射

B、光学声子散射

C、声学声子散射

D、中性杂质散射

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