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关于采用区域提纯法去除硅中硼杂的区域提纯杂质描述正确的是()

关于采用区域提纯法去除硅中硼杂的区域提纯杂质描述正确的是()

A、取决于硼的含量

B、取决于温度效果显著

C、效果一般完全去除

D、几乎无法效果去除

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更多“关于采用区域提纯法去除硅中硼杂的区域提纯杂质描述正确的是()”相关的问题

第1题

无坩埚区域提纯()。

A.也可用于晶体生长

B.避免了坩埚的污染

C.熔硅不会流动是由于其很大的表面张力

D.硅也能采用水平区域提纯法

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第2题

无坩埚区域提纯()。

A.硅也能采用水平区域提纯法

B.也可用于晶体生长

C.避免了坩埚的污染

D.熔硅不会流动是由于其很大的表面张力

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第3题

改良西门子法所采用的提纯工艺是()。
改良西门子法所采用的提纯工艺是()。

A、区域提纯

B、精馏

C、物理提纯法

D、吸附

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第4题

对三氯氢硅中痕量杂质的分析采用化学药剂提纯法。()
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第5题

硼检采用快速区熔法的工艺,对与以下区熔条件说法正确的是()。

A.区熔宽度以棒的直接为参考

B.熔区行程以10倍熔区为宜

C.提纯次数:硼检10次

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第6题

对于一次熔化来说,正常凝固的提纯效果不如区域提纯的效果好。()
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第7题

化学法提纯高纯多晶硅的工艺包括()。

A.中间化合物的合成

B.中间产物被还原或者是分解成高纯硅还原成高纯硅

C.区域提纯

D.中间化合物的分离提纯

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第8题

对三氯氢硅中硼的分析采用蒸发法。()
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第9题

三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定主要试剂表述错误的有()。

A.铍内标KCL载体混合溶液每毫升含铍0.1

B.盐酸优级纯再经石墨熏蒸器提纯两次

C.氢氟酸优级纯再经一次提纯,采用自制塑料蒸馏器,置于70℃左右的水浴中提纯,弃去前后馏分各10%

D.封闭剂1%聚苯乙烯乙酸乙酯溶液

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第10题

采用悬浮区熔法测多晶硅中磷原子含量必须知道其基硼含量()
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