A、取决于硼的含量
B、取决于温度效果显著
C、效果一般完全去除
D、几乎无法效果去除
第1题
A.也可用于晶体生长
B.避免了坩埚的污染
C.熔硅不会流动是由于其很大的表面张力
D.硅也能采用水平区域提纯法
第2题
A.硅也能采用水平区域提纯法
B.也可用于晶体生长
C.避免了坩埚的污染
D.熔硅不会流动是由于其很大的表面张力
第3题
A、区域提纯
B、精馏
C、物理提纯法
D、吸附
第4题
第5题
A.区熔宽度以棒的直接为参考
B.熔区行程以10倍熔区为宜
C.提纯次数:硼检10次
第6题
第7题
A.中间化合物的合成
B.中间产物被还原或者是分解成高纯硅还原成高纯硅
C.区域提纯
D.中间化合物的分离提纯
第8题
第9题
A.铍内标KCL载体混合溶液每毫升含铍0.1
B.盐酸优级纯再经石墨熏蒸器提纯两次
C.氢氟酸优级纯再经一次提纯,采用自制塑料蒸馏器,置于70℃左右的水浴中提纯,弃去前后馏分各10%
D.封闭剂1%聚苯乙烯乙酸乙酯溶液
第10题
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