非晶硅最常用的生产方法是（)。

A.等离子增强化学气相沉积

B.热丝化学气相沉积制备多晶硅

C.低压化学气相沉积制备多晶硅

D.非晶硅晶化制备多晶硅薄膜

A.化学气相沉积可以选取任意的反应物

B.化学气相沉积是通过气相化学反应生成固态产物并沉积在固体表面的过程

C.物理气相沉积过程没有发生化学反应

D.气相沉积包括化学气相沉积和物理气相沉积

A.利用化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜

B.将多晶硅片切薄

C.对多晶硅片进行热处理

D.非晶硅晶化制备

A.气相物质的产生

B.气相物质的输运

C.气相物质在工件表面沉积形成固态薄膜

D.沉积材料蒸发

A.真空热蒸发沉积

B.丝网印刷技术

C.旋转涂层法

D.有机气相沉积法

A.PCVD

B.CVD

C.MCVD

D.AVD

A.离子束刻蚀法

B.MOCVD

C.化学气相沉积法

D.MBE

A.管内化学汽相沉积法

B.轴向汽相沉积法

C.管外化学汽相沉积法

D.多元素组分玻璃法