受保护的集成电路布图设计应当具有（)。

受保护的集成电路布图设计应当具有（)。

A.新颖性

B.创造性

C.独创性

D.开拓性

A.该布图设计是创作者自己的智力劳动成果

B.该布图设计早已被同行所熟知

C.该布图设计创作后具备一定的先进性

D.该布图设计虽含有常用的、显而易见的成分的布图设计，但作为整体却具有独创性

A.10年

B.15年

C.20年

D.25年

布图设计专有权的保护期限为10年,无论是否登记的布图设计,自创作完成之日起几年后,不再受《集成电路布图设计保护条例》保护（)。

A、10

B、15

C、20

D、25

目前世界各国集成电路的保护主要是（)。

A、集成电路的布图设计保护

B、集成电路的构型保护

C、集成电路的制造工艺保护

D、集成电路的外观技术保护

A.发明

B.实用新型

C.外观设计

D.集成电路布图设计

A.集成电路的布图设计

B.集成电路的构形

C.集成电路的制造工艺

D.集成电路的外观技术

A.新颖性

B.通用性

C.独创性

D.显著性

保护集成电路知识产权重点在于保护（)。

A、布图设计

B、构形

C、制造工艺

D、元器件